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2010年03月21日23時更新
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低温・コンタミフリーでナノレベルの微粒化を実現する解砕装置『G-smasher LM-1000』を「nano tech 2010」に出展

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新開発の微粒化技術・液滴衝突法によるナノ粒子の解砕【提供:リックス】
新開発の微粒化技術・液滴衝突法によるナノ粒子の解砕【提供:リックス】

 リックス株式会社(所在地:福岡県福岡市、代表取締役社長:安井 龍之助)は、2010年2月17日から始まる展示会「nano tech 2010」で新製品のナノ粒子解砕装置『G-smasher LM-1000』を実機展示すると発表。

 『G-smasher LM-1000』は、リックスが開発した、従来に無かった湿式解砕手法として超音速二流体ジェットノズル(ラバルノズル)を利用し、スラリー ※1を液滴にして衝突板に衝突させる方法(液滴衝突法)を用いたナノ粒子解砕装置『G-smasher』の少量生産用装置。2010年5月に、販売開始を予定しているものとなっている。

※1 用語説明
コンタミフリー : 汚染物質の発生無し
スラリー : 懸濁液(けんだくえき)
コンタミネーション : 汚染物質・夾雑物(きょうざつぶつ)

【nano tech 2010概要】
会期 : 2010年2月17日(水)~2月19日(金)の3日間
会場 : 東京ビッグサイト(東京国際展示場)東4・5・6ホール&会議棟
小間位置 : 東5ホール C-31
出展品 : 液滴衝突法を用いたnano微粒化装置『G-smasher LM-1000』

nano tech 2010
http://www.nanotechexpo.jp/

リックス株式会社
http://www.rix.co.jp/

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